Dépôt institutionnel de l'universite Freres Mentouri Constantine 1

Caracterisation des interfaces Si/O2 , Si/Si3N4 et Si/SiOxNy par spectroscopie des photoelectrons (XPS)

Caracterisation des interfaces Si/O2 , Si/Si3N4 et Si/SiOxNy par spectroscopie des photoelectrons (XPS)

Benkherourou Ouahab; Deville J.P.
URI: http://depot.umc.edu.dz/handle/123456789/11902
Date: 2017-01-01

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