Caracterisation des interfaces Si/O2 , Si/Si3N4 et Si/SiOxNy par spectroscopie des photoelectrons (XPS)

Benkherourou Ouahab; Deville J.P.

المكان (URI): http://depot.umc.edu.dz/handle/123456789/11902

التاريخ: 1994

عرض سجل المادة الكامل

الملفات في هذه المادة

الملفات	الحجم	التنسيق	عرض

هذه المادة تظهر في الحاويات التالية

Magistère (Physique)

بحث دي سبيس

استعرض

جميع محتويات المستودع
هذه الحاوية

حسابي