Influence d'oxydation thermique classique sèche (C.D.TO) sur les profils SIMS de dopage et la diffusivité du dopant dans les films Si-LPCVD fortement dopés in-situ au bore.

Ait-Kaki Abdelaziz; Boukezzata Messaoud

URI: http://depot.umc.edu.dz/handle/123456789/6001

Date: 2017-01-01

Description:

86 p.

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