Influence d'oxydation thermique classique sèche (C.D.TO) sur les profils SIMS de dopage et la diffusivité du dopant dans les films Si-LPCVD fortement dopés in-situ au bore.

Ait-Kaki Abdelaziz; Boukezzata Messaoud

المكان (URI): http://depot.umc.edu.dz/handle/123456789/6001

التاريخ: 2017-01-01

الوصف:

86 p.

عرض سجل المادة الكامل

الملفات في هذه المادة

الاسم: AIT2864.pdf

الحجم: 5.884Mb

التنسيق: PDF

عرض/افتح

هذه المادة تظهر في الحاويات التالية

Magistère (Electronique)

بحث دي سبيس

استعرض

جميع محتويات المستودع
هذه الحاوية

حسابي