Caracterisation des interfaces Si/O2 , Si/Si3N4 et Si/SiOxNy par spectroscopie des photoelectrons (XPS)

dc.contributor.author	Benkherourou Ouahab
dc.contributor.author	Deville J.P.
dc.date.accessioned	2022-05-30T09:37:36Z
dc.date.available	2022-05-30T09:37:36Z
dc.date.issued	1994
dc.identifier.uri	http://depot.umc.edu.dz/handle/123456789/11902
dc.language.iso	fre
dc.subject	Physique
dc.title	Caracterisation des interfaces Si/O2 , Si/Si3N4 et Si/SiOxNy par spectroscopie des photoelectrons (XPS)
dc.coverage	02 Disponibles au magazin de la bibliothèque centrale