Dépôt institutionnel de l'universite Freres Mentouri Constantine 1

Diffusion des phonons thermiques dans le silicium dopé au li -p et l i-o et influence de la structure électronique des impuretés

Fichier(s) constituant ce document

Fichiers Taille Format Vue

Ce document figure dans la(les) collection(s) suivante(s)

Chercher dans le dépôt


Parcourir

Mon compte