Etude des propriétés technologiques des films de Si-LPCVD fortement dopés au bore

dc.contributor.author	Abadli Salah
dc.contributor.author	Mansour F.
dc.date.accessioned	2022-05-24T09:45:44Z
dc.date.available	2022-05-24T09:45:44Z
dc.date.issued	2017-01-01
dc.identifier.uri	http://depot.umc.edu.dz/handle/123456789/5548
dc.description	175 f.
dc.language.iso	fre
dc.subject	Electronique
dc.title	Etude des propriétés technologiques des films de Si-LPCVD fortement dopés au bore
dc.title	modélisation de la diffusion accélérée et transitoire ou TED
dc.coverage	01 Disponible à la salle de recherche 02 Disponibles au mafazin de la B.U.C. 01 CD