CARACTÉRISATION ÉLECTRIQUE DE LA PULVÉRISATION MAGNÉTRON

Abstract

L’objective de notre étude et la modélisation électrique d’un plasma magnétron utilisé dans les procédés de dépôt de couche minces. La corrélation entre les éléments de ce modèle électrique avec les paramètres macroscopiques du plasma généré par le magnétron (tension d’autopolarisation Vdc et flux de particule ionique Is bombardant l’échantillon), permet un meilleur contrôle et ajustement lors d’un processus de dépôt. L’étude se fera en fonction de la pression de gaz argon et de la puissance d’excitation. La confrontation entre les éléments du modèle établie et les paramètres clefs de la pulvérisation magnétron, permet de mieux définir les éléments les plus sensibles et les plus influents